铜互连后道最硬核的一层膜——Terminal Effect、HRVA、Dual Cathode、添加剂三剑客、Superfill 超填充、多波形 Entry、Direct Plate on Ru。一线工程师的 ECP 工艺窗口全解。
在 3D NAND 与先进逻辑的后道铜互连里,ECP(电化学电镀铜)是把沟槽“自己长满”的那道命脉工艺。它既是量产良率的关键,也是 PIE / 工艺岗面试的高频考点——但市面系统讲解其中机理的中文资料极少。
ECP 是 3D NAND / 逻辑后道铜互连的命脉。Terminal Effect、Superfill、添加剂三剑客是量产与面试必考,市面系统中文资料极少。
把 Butler-Volmer、添加剂竞争、多波形 Entry 讲成“能调的窗口”,而不是背公式——真到了产线上能直接照着排障。
21 章 + 实战案例 + 误区避坑,覆盖 void / seam / roughness 缺陷、DOE、SPC、Direct Plate on Ru 先进节点,拿来即用。
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铜互连后道最硬核的一层膜:Terminal Effect、HRVA、Dual Cathode、添加剂三剑客、Superfill 超填充、多波形 Entry、Direct Plate on Ru、缺陷工程与一线实战案例,共 21 章 + 5 附录。

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